Bloc cible en titane

Les impuretés dans les solides du bloc cible du titane et l'oxygène et l'humidité dans les pores sont les principales sources de contamination dans les films déposés. Les cibles pour différentes applications ont des exigences différentes pour différents contenus d'impuretés. Par exemple, les cibles en aluminium pur en aluminium et en aluminium pour l'industrie des semi-conducteurs ont des exigences particulières pour le contenu des métaux alcalins et le contenu des éléments radioactifs.

Afin de réduire les pores dans les solides cibles et d'améliorer les performances des films pulvérisés, la cible est généralement nécessaire pour avoir une densité élevée. La densité de la cible affecte non seulement le taux de pulvérisation, mais influence également les propriétés électriques et optiques du film. Plus la densité cible est élevée, meilleure est la performance du film. De plus, l'augmentation de la densité et de la résistance de la cible permet à la cible de mieux résister aux contraintes thermiques du processus de pulvérisation. La densité est également l'un des indicateurs de performance clés du matériau cible, de la taille des grains et de la distribution de la taille des grains.
Habituellement, la cible est la structure polycristalline, la taille des grains peut être du micron au millimètre. Pour le même type de cible, le taux de pulvérisation de la cible avec des grains fins est plus rapide que celui de la cible avec des grains grossiers; et la distribution d'épaisseur du film déposé par pulvérisation de la cible avec une petite différence de taille des grains (distribution uniforme) est plus uniforme.